耐腐蚀负性光刻胶 JT-NF100
- 发布日期：2025-03-10
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- 产品介绍
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产品说明书：
JT-NF100 是一种针对需要高精度与耐强酸腐蚀行业开发的高性能负性光刻胶系列。具有优异的感 光度， 分辨率、对比度和耐化学性能尤其能满足强酸如氢氟酸抗深蚀刻性能。
一、使用范围与用途
本产品可用于制造 需要高精度图案制造等领域，如玻璃表面精细花纹或不锈钢表面精细花纹蚀刻。通过特定的曝光和显影技术。适用 于旋涂，辊涂、 喷雾涂、网板印刷， 显影后具有高度之解像力 ，适用于各种玻璃、金属材料精密线路及钢片，铝片蚀刻之制造。
二. 、性状:
颜色
透明液体
密度
1.1-1.35
不挥发份
30-65%
挥发速率
0.34
粘度
300~3000cps/25 ±1 度
抗蚀刻剂
氢氟酸，盐酸， 硝酸，氢氟酸，酸性氯化铜、三氯化铁等蚀刻剂
抗电镀
适合镀铜,铅锡,纯锡,镍金
本产品说明书应与安全技术说明书一起阅读，如有其它问题请联系广东吉田半导体材料有 限公司，公司将安排专人进行跟进.
三 、工艺流程：
前处理
将承印物用碱或清洗液将表面油污与杂志去除，保持干燥与洁净状态
涂布
膜厚1-30um，将光刻胶用旋涂，网印、喷涂等方法涂到承印物上。丝网的数目用
200 到 250目最佳，旋涂的转速根据膜厚可做调整，喷涂粘度也可调整。
烘干
85 ±5°-30min，或120° 60-180S 的循环风烘箱内或隧道炉红外烘烤
曝光
适合365 nm 。曝光条件:105- 4000mJ/CM2 (干燥后 24-72 小时内曝光完毕)
显影
我司配置的显影液，液温 28 -38 ° 喷压 1-2KG/CM2 ,显影 时间40-200
秒。
后烘
需蚀刻深度较深，需要进行后烤加固(120 度 30 分钟), 并进行 UV 固化
， 以发挥胶的最好的性能
蚀刻
可用盐酸，氢氟酸，或者常用蚀刻液进行蚀刻。
退膜
用 3%-5%氢氧化钠溶液液温 45 °C -60 °C
上述工艺为参考工艺流程，具体需要根据实际试样做工艺优化与调整。
四、产品特性
分辨率
JT-NF100 具有优异的分辨率，可以满足不同工艺节点的需求。它能够实现微米级别的光刻图形，保证产品高精度加工。
耐化学 性能
JT-NF100 光刻胶具有优异的耐化学性能，能够在化学处理过程中保持图形不变形。这对于制造过程中的湿法清洗、酸洗等工艺非常重要
环境友 好
JT-NF100 光刻胶符合环境保护要求，不含有害物质，对操作人员和环境无害。可适用LED光源，能耗低。
光源友 好
JT-NF100 光源适应范围广，高压水银灯,金属卤灯,或 LED 灯。推荐LED冷光源，不发热，对产品良率有很大提升。
耐蚀刻深 度
JT-NF100 光刻胶可适用于耐氢氟酸等强有机酸，用于玻璃，硅片的深度蚀刻。
本产品说明书应与安全技术说明书一起阅读，如有其它问题请联系广东吉田半导体材料有 限公司，公司将安排专人进行跟进.
上述基材为 手机钢化玻璃面饭 ，HF14%,30min，腐蚀效果。
五 、使用注意事项
1
储存条件：建议在5-25℃的环境下储存，并避免阳光直射，暗室或黄光环境。
2
使用前应仔细阅读产品安全说明书，并采取必要的安全防护措施
3
使用时应注意保持工作环境的洁净，避免灰尘和杂质污染光刻胶。
4
涉及到的工艺参数应根据实际情况进行调整， 以确保最佳的加工效果
5
本产品为工业使用，保质期为6个月。
本产品说明书应与安全技术说明书一起阅读，如有其它问题请联系广东吉田半导体材料有 限公司，公司将安排专人进行跟进.
